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公开(公告)号：CN102096311B
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201010582088.4
申请日：2010-12-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/60 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/14 , Y10T428/24488
Abstract: 提供了一种形成光掩模的玻璃基板，其具有方形主表面，其中在该主表面上限定两个条带区域，使得每一区域跨展在侧边内2mm至10mm之间并且不包括从该侧边的相对的端部向内延伸2mm的端部部分，对两个条带区域中的每一个计算最小二乘平面，两个条带区域的最小二乘平面的法线之间包括的角度在10秒内，并且两个条带区域之间高度差为直至0.5μm。
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公开(公告)号：CN101856805B
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201010190487.6
申请日：2010-04-01
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: C03C19/00
Abstract: 本发明涉及用于生产大尺寸合成石英玻璃基板的方法。该方法通过测量合成石英玻璃基板原料的前表面和后表面的平面度和平行度，所述合成石英玻璃基板原料的对角线长度至少为1000mm，并基于测量的平面度和平行度的数据部分地去除基板原料的凸起部分和厚的部分，生产大尺寸合成石英玻璃基板。去除步骤包括使用第一加工工具的研磨加工和使用第二加工工具的研磨加工，第一加工工具的直径对应于基板对角线长度的15～50％，第二加工工具具有较小的直径。
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公开(公告)号：CN101856805A
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN201010190487.6
申请日：2010-04-01
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: C03C19/00
Abstract: 本发明涉及用于生产大尺寸合成石英玻璃基板的方法。该方法通过测量合成石英玻璃基板原料的前表面和后表面的平面度和平行度，所述合成石英玻璃基板原料的对角线长度至少为1000mm，并基于测量的平面度和平行度的数据部分地去除基板原料的凸起部分和厚的部分，生产大尺寸合成石英玻璃基板。去除步骤包括使用第一加工工具的研磨加工和使用第二加工工具的研磨加工，第一加工工具的直径对应于基板对角线长度的15～50％，第二加工工具具有较小的直径。
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公开(公告)号：CN101006021A
公开(公告)日：2007-07-25
申请号：CN200680000217.6
申请日：2006-06-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C03C19/00 , H01L21/027 , G03F1/14
CPC classification number: G03F7/70791 , C03C19/00 , G02F2001/133302 , G03F1/60
Abstract: 通过将大型玻璃基板材料加工(1)基于基板材料在垂直姿态下的高度数据的整平去除量加上变形修正去除量，来制备用于形成光掩模基板的大型玻璃基板。变形修正去除量是从以下量计算的：(2)基板材料在水平姿态下由于其自身重量而产生的弯曲；(3)由于夹紧在曝光设备中引起的光掩模基板的变形；以及(4)用于支撑母玻璃的台板的精度失真。
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公开(公告)号：CN102096311A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN201010582088.4
申请日：2010-12-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/14 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/14 , Y10T428/24488
Abstract: 提供了一种形成光掩模的玻璃基板，其具有方形主表面，其中在该主表面上限定两个条带区域，使得每一区域跨展在侧边内2mm至10mm之间并且不包括从该侧边的相对的端部向内延伸2mm的端部部分，对两个条带区域中的每一个计算最小二乘平面，两个条带区域的最小二乘平面的法线之间包括的角度在10秒内，并且两个条带区域之间高度差为直至0.5μm。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101006021B
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200680000217.6
申请日：2006-06-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C03C19/00 , H01L21/027 , G03F1/14
CPC classification number: G03F7/70791 , C03C19/00 , G02F2001/133302 , G03F1/60
Abstract: 通过将大型玻璃基板材料加工(1)基于基板材料在垂直姿态下的高度数据的整平去除量加上变形修正去除量，来制备用于形成光掩模基板的大型玻璃基板。变形修正去除量是从以下量计算的：(2)基板材料在水平姿态下由于其自身重量而产生的弯曲；(3)由于夹紧在曝光设备中引起的光掩模基板的变形；以及(4)用于支撑母玻璃的台板的精度失真。
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公开(公告)号：CN101246312A
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN200710169156.2
申请日：2007-12-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F1/68 , Y02P20/582
Abstract: 具有图案化的遮光膜的用过的大尺寸光掩模基板通过以下步骤被重复利用：(i)从用过的基板去除遮光膜以提供光掩模形成玻璃基板原料，(ii)通过喷砂对玻璃基板原料进行表面重修，(iii)对表面重修的玻璃基板原料再抛光以产生再生的玻璃基板原料，(iv)将遮光膜施加到再生的玻璃基板原料上应用以产生再生的光掩模形成毛坯，以及(v)加工该毛坯的遮光膜成与所期望的母玻璃曝光相对应的图案，从而产生再生的光掩模基板。
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公开(公告)号：CN101246312B
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN200710169156.2
申请日：2007-12-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F1/68 , Y02P20/582
Abstract: 具有图案化的遮光膜的用过的大尺寸光掩模基板通过以下步骤被重复利用：(i)从用过的基板去除遮光膜以提供光掩模形成玻璃基板原料，(ii)通过喷砂对玻璃基板原料进行表面重修，(iii)对表面重修的玻璃基板原料再抛光以产生再生的玻璃基板原料，(iv)将遮光膜施加到再生的玻璃基板原料上应用以产生再生的光掩模形成毛坯，以及(v)加工该毛坯的遮光膜成与所期望的母玻璃曝光相对应的图案，从而产生再生的光掩模基板。
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公开(公告)号：CN101821058A
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200980100696.2
申请日：2009-05-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: C03C19/00 , B24B1/00 , B24B37/00 , B24B37/0056 , C03C15/02 , C09G1/02 , C09G1/04 , C09K3/1454 , C09K3/1463 , C09K13/02 , C09K13/06
Abstract: 本发明公开了合成石英玻璃基板用抛光剂，其特征在于含有胶体二氧化硅等的胶体溶液，和聚羧酸系聚合物、酸性氨基酸、酚类或糖胺聚糖，所述胶体溶液具有20-50质量％的胶体浓度。
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公开(公告)号：CN100403097C
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN03102309.6
申请日：2003-01-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F1/60 , B24B7/00 , B24C1/00 , C03C19/00 , G02F2001/133302 , Y10T428/315
Abstract: 公开一种大尺寸衬底，它具有不小于500mm的对角线长度和不大于6.0×10-6的平面度/对角线长度比率。通过把按照本发明的大尺寸衬底用于曝光，曝光精度被提高，特别是对齐精度和分辨率，因此可能获得大尺寸面板的高精度曝光。通过使用按照本发明的加工方法，有可能稳定获得高平面度的大尺寸光掩模衬底，由于在面板曝光时CD精度(尺寸精度)被提高，有可能执行精细图案的曝光，使面板进入更高的领域。另外，通过应用按照本发明的加工方法，也可能产生任意的表面形状。
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