公开(公告)号：CN103229099B

公开(公告)日：2015-10-07

申请号：CN201180056117.6

申请日：2011-11-18

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 吉川博树 ,  深谷创一 ,  稻月判臣 ,  山本恒雄 ,  中川秀夫

IPC: G03F1/54 ,  C22C27/06 ,  C22C28/00 ,  C22C29/00 ,  C23C14/14

CPC classification number: G03F1/80 ,  B32B15/01 ,  C22C27/06 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/0676 ,  G03F1/00 ,  G03F1/30 ,  G03F1/50 ,  G03F1/54

Abstract: 在本发明的含铬材料膜中，添加有能够使与铬的混合体系在400℃以下的温度下成为液相的元素。当将所述含铬材料膜用作可用于光掩模坯料中的光学膜(例如遮光膜、蚀刻掩膜、蚀刻停止膜)时，可在不依赖于特别膜设计的情况下，在维持常规含铬材料膜的光学特性等的同时，提高氯干蚀刻的速度，并且可提高图案化的精度。

公开(公告)号：CN103229099A

公开(公告)日：2013-07-31

申请号：CN201180056117.6

申请日：2011-11-18

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 吉川博树 ,  深谷创一 ,  稻月判臣 ,  山本恒雄 ,  中川秀夫

IPC: G03F1/54 ,  C22C27/06 ,  C22C28/00 ,  C22C29/00 ,  C23C14/14

CPC classification number: G03F1/80 ,  B32B15/01 ,  C22C27/06 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/0676 ,  G03F1/00 ,  G03F1/30 ,  G03F1/50 ,  G03F1/54

Abstract: 在本发明的含铬材料膜中，添加有能够使与铬的混合体系在400℃以下的温度下成为液相的元素。当将所述含铬材料膜用作可用于光掩模坯料中的光学膜(例如遮光膜、蚀刻掩膜、蚀刻停止膜)时，可在不依赖于特别膜设计的情况下，在维持常规含铬材料膜的光学特性等的同时，提高氯干蚀刻的速度，并且可提高图案化的精度。