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公开(公告)号:CN103223796B
公开(公告)日:2015-07-08
申请号:CN201310036568.4
申请日:2013-01-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/506 , B41M5/502 , B41M5/504 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。记录介质包括基材和至少一层墨接收层。其中作为墨接收层的一层的第一墨接收层包含平均一次粒径为1μm以下的无机颗粒和涂布有金属氧化物的无机颗粒。所述涂布有金属氧化物的无机颗粒具有15.0μm以上的平均一次粒径。当记录介质的FLOP值的最大值由FLOPMax表示和FLOP值的最小值由FLOPMin表示时,FLOPMin为2.5以上和FLOPMin/FLOPMax值为0.80以上且1.00以下。
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公开(公告)号:CN103568617B
公开(公告)日:2015-06-10
申请号:CN201310344109.2
申请日:2013-08-08
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/502 , B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M2205/42
Abstract: 本发明涉及记录介质。一种记录介质依次包括支持体、包含第一无机颗粒和第一粘结剂的第一墨接收层、包含第二无机颗粒和第二粘结剂的第二墨接收层以及作为最外表面层并包含第三无机颗粒、第三粘结剂和不同于所述第三无机颗粒且具有1.0至20.0μm的平均二次粒径的颗粒的第三墨接收层。所述第一粘结剂的含量与所述第一无机颗粒的含量的质量比大于第二粘结剂的含量与第二无机颗粒的含量的质量比。所述具有特定平均二次粒径的颗粒的含量相对于所述第三无机颗粒的含量为0.5质量%以上。
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公开(公告)号:CN102632736B
公开(公告)日:2014-07-02
申请号:CN201210031509.3
申请日:2012-02-09
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/508 , B41M5/502 , B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254 , B41M2205/38
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。记录介质包括支持体和墨接收层,所述墨接收层具有下层和上层,其中所述下层包含无机细颗粒、聚乙烯醇和硼酸,所述无机细颗粒包括选自氧化铝、水合氧化铝和气相法二氧化硅中的至少一种化合物,其中所述上层包含无机细颗粒、聚乙烯醇和硼酸,所述无机细颗粒包括选自氧化铝和水合氧化铝中的至少一种化合物,其中所述下层具有相对于聚乙烯醇为2.0质量%至7.0质量%的硼酸含量,和其中所述上层具有相对于聚乙烯醇为10.0质量%至30.0质量%的硼酸含量。
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公开(公告)号:CN103223796A
公开(公告)日:2013-07-31
申请号:CN201310036568.4
申请日:2013-01-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/506 , B41M5/502 , B41M5/504 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。记录介质包括基材和至少一层墨接收层。其中作为墨接收层的一层的第一墨接收层包含平均一次粒径为1μm以下的无机颗粒和涂布有金属氧化物的无机颗粒。所述涂布有金属氧化物的无机颗粒具有15.0μm以上的平均一次粒径。当记录介质的FLOP值的最大值由FLOPMax表示和FLOP值的最小值由FLOPMin表示时,FLOPMin为2.5以上和FLOPMin/FLOPMax值为0.80以上且1.00以下。
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公开(公告)号:CN102632736A
公开(公告)日:2012-08-15
申请号:CN201210031509.3
申请日:2012-02-09
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/50
CPC classification number: B41M5/508 , B41M5/502 , B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254 , B41M2205/38
Abstract: 本发明涉及一种记录介质。记录介质包括支持体和墨接收层,所述墨接收层具有下层和上层,其中所述下层包含无机细颗粒、聚乙烯醇和硼酸,所述无机细颗粒包括选自氧化铝、水合氧化铝和气相法二氧化硅中的至少一种化合物,其中所述上层包含无机细颗粒、聚乙烯醇和硼酸,所述无机细颗粒包括选自氧化铝和水合氧化铝中的至少一种化合物,其中所述下层具有相对于聚乙烯醇为2.0质量%至7.0质量%的硼酸含量,和其中所述上层具有相对于聚乙烯醇为10.0质量%至30.0质量%的硼酸含量。
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公开(公告)号:CN105291622A
公开(公告)日:2016-02-03
申请号:CN201510363370.6
申请日:2015-06-26
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41M5/5254 , B05D1/00 , B41M5/50 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5227 , B41M5/5263
Abstract: 本发明涉及记录介质及其生产方法。一种记录介质,其具有基材以及含有无机颗粒和选自由下式(I)所表示的化合物和由下式(II)所表示的化合物的至少一种化合物的墨接收层:
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公开(公告)号:CN103358747B
公开(公告)日:2015-06-24
申请号:CN201310112504.8
申请日:2013-04-02
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/52
CPC classification number: B41M5/506 , B41M5/502 , B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5254 , C04B41/52 , C08F222/1006 , C09K2211/1022
Abstract: 本发明涉及记录介质。一种记录介质,其依次包括支承体、第二墨接受层和第一墨接受层。所述第一墨接受层含有气相法二氧化硅、粘结剂、具有磺酰基的阳离子性聚合物和二醇。所述第二墨接受层含有气相法二氧化硅和粘结剂,并且(1)不包含任何具有磺酰基的阳离子性聚合物或者(2)以基于100质量份的气相法二氧化硅为不高于0.1质量份的量包含具有磺酰基的阳离子性聚合物。
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公开(公告)号:CN102632737B
公开(公告)日:2014-11-05
申请号:CN201210031119.6
申请日:2012-02-08
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41M5/52
CPC classification number: B41M5/5218 , B41M5/502 , B41M5/506 , B41M5/52 , B41M5/5254
Abstract: 本发明涉及一种喷墨记录介质,所述喷墨记录介质包括支持体和设置在支持体上的两层以上的墨接收层,其中作为两层以上的墨接收层的最外的墨接收层的第一墨接收层和邻接第一墨接收层的第二墨接收层包含氧化铝颜料、聚乙烯醇和硼酸。第一墨接收层以基于氧化铝颜料为7.0-10.5质量%以下的量包含聚乙烯醇,并以基于氧化铝颜料为1.1-1.4质量%以下的量包含硼酸。第二墨接收层以基于氧化铝颜料为10.5-17.0质量%以下的量包含聚乙烯醇,并以基于氧化铝颜料为1.5-2.5质量%以下的量包含硼酸。
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