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公开(公告)号：CN116165850B
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202310119397.5
申请日：2023-01-17
Abstract: 本说明书公开了一种用于激光直写的光纤光刻物镜镜头，该物镜镜头包括：光焦度为负的第一透镜组、光焦度为负的第二透镜组以及光焦度为正的第三透镜组，第一透镜组中包含四个光焦度依次为正、负、负、正的透镜；第二透镜组包含三个光焦度依次为负、正、负的透镜；第三透镜组中包含四个光焦度依次为正、负、正、正的透镜；第一透镜组负责接收光源，并将光源折射至第二透镜组，第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线，并将收集的光线折射至第三透镜组，第三透镜组将光线将聚焦于基底，物镜镜头中的透镜均处于同一光轴，本说明书中的物镜镜头能够校正多种像差，特别是畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差。
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公开(公告)号：CN112666803B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202110048240.9
申请日：2021-01-14
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制点阵产生及独立控制的并行直写装置，包含两路光：一路光通过镀涡旋膜MLA产生涡旋抑制光阵列，同时利用SLM控制各涡旋光的位置和形貌，结合DMD独立调控涡旋光强度，实现聚合区域大小控制；另一路光通过MLA产生激发光点阵，同时利用SLM调控各激发光位置，实现激发光和涡旋光阵列的精密重合。本发明可产生刻写点大小独立可控的高质量PPI阵列，每个PPI光斑由激发光和涡旋抑制光组成；采用相同刻写点大小的PPI阵列进行加工，具有超高分辨率、高通量和高均匀度的优势，控制刻写点大小使其具有特定分布，还能实现灰度光刻功能，加工任意高均匀度曲面结构和真三维微结构，可应用于超分辨光刻。
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公开(公告)号：CN112505064B
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202011506981.9
申请日：2020-12-18
Applicant: 之江实验室 , 浙江大学 , 中电科风华信息装备股份有限公司
IPC: G01N21/95
Abstract: 本发明是一种晶圆缺陷检测系统及方法，包括处理单元、控制组件、位移组件、检测组件和信号采集单元，所述位移组件与检测组件配合设置，位移组件通过位移控制检测组件的检测信号采集及运动，所述控制组件通过指令控制位移组件的移动，间接控制检测组件的检测信号采集，所述检测组件采集的信号及控制组件的指令信息传输到信号采集单元，所述信号采集单元将采集的信号传输给处理单元处理，得到缺陷信息；本发明降低了对面阵探测器灵敏度的要求，可以有效地降低探测器成本；相对传统扫描方式，可以极大的提升整个系统的检测速度；由于面阵探测器在面区域曝光过程中不移动，可以改善传统扫描方式抖动模糊的问题，提高缺陷的检测识别率。
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公开(公告)号：CN115826364A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211493606.4
申请日：2022-11-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种基于双步双光子效应的高通量超分辨纳米刻写方法与装置，将存在延时的一个激发光和一个促进光合束，入射到数字微镜器件，随后成像到三维样品台的基板上涂覆的具有双步双光子效应的光刻胶上；根据所需刻写结构控制数字微镜器件，完成基板所在焦面处的曝光，同时控制三维样品台，以及激发光和促进光的延时，使延时大于光刻胶分子的单重态的激发态S1到多重态T1，进而实现双步双光子效应，实现任意三维纳米结构的刻写；激发光和促进光为同一波长且重复频率相同的激光束，且激发光的脉宽为飞秒，促进光的脉宽为皮秒或者纳秒。本发明实现超分辨激光刻写，并且结合数字微镜器件，进而实现高通量刻写能力。
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公开(公告)号：CN115598833A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202211046913.8
申请日：2022-08-30
Abstract: 本发明提供了一种基于方形多模光纤高通量的三维激光直写方法及系统，本发明将由多个方形多模光纤组成的光纤阵列作为激光直写头，每一方形多模光纤均利用一空间光调制器对入射方形多模光纤的光场根据加载的计算好的相位图进行相位调制，在出射面实现聚焦，聚焦后的激光对待加工物体进行三维激光直写；其中，每一方形多模光纤对应的计算好的相位图通过设置的聚焦位置，利用闭环的迭代遗传算法进行优化获得，每一方形多模光纤出射激光的聚焦位置根据光纤阵列排列时的加工误差进行设置。利用方形多模光纤可以紧致排列的特点，可将系统拓展为多通道，继而实现多通道并行直写，直写效率进一步提高，解决了现有激光直写系统直写速度慢分辨率低等问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112882184B
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202110061579.2
申请日：2021-01-18
Abstract: 本发明公开了一种双光束实时中心对准和稳定的装置和方法，该装置包括可调小孔、旋转反射镜、直角棱镜反射镜、纳米位移台、角度压电调节镜架、二色镜、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件。本发明可以对两束不同波长的激光束进行合束，确保光斑中心严格对准，并且对出射后的合束光进行光束稳定，在长时间工作中保持两束光的中心一直稳定在重合状态，实现小型化、高精度、快速度的合束光稳定控制。利用本发明装置调整得到稳定的合束光，可以广泛用于超分辨显微成像和高精度激光直写光刻等系统中。
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公开(公告)号：CN115046744B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202210975776.X
申请日：2022-08-15
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于SLM生成光斑点阵的焦面检测及调倾方法与装置，所述方法在SLM上加载n×n圆形点阵，入射光束依次经过三角棱镜第一反射面、SLM、三角棱镜第二反射面、二分之一波片、偏振分束镜、四分之一波片、透镜、物镜，入射到样品表面；经样品表面反射后，反射光依次经过物镜、透镜、四分之一波片和偏振分束镜后，分束为第一光束和第二光束；其中，第一光束入射到第一CCD相机进行成像，第二光束入射到第二CCD相机进行成像，记录两个CCD相机上的光斑点阵的直径；基于两光斑点阵的直径的差值计算离焦量，进而获得焦点位置；并计算样品的倾斜度，从而对焦面进行调倾。本发明解决焦面倾斜问题，装置简单，成本低。
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公开(公告)号：CN114355621B
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202210262638.7
申请日：2022-03-17
Abstract: 本发明公开了一种基于面阵探测器和艾里斑细分的多焦点非标记差分超分辨成像方法与装置，激光器发出的光被偏振分光镜分为偏振方向互相垂直的两束光，两束光分别被SLM的左右两个半屏加载的相位掩膜调制，两束光分别为实心光束和空心光束；之后实心光束和空心光进行合束，合束后的光束再被分为第一子光束和第二子光束，分别包含实心光束和空心光束，以一定角度入射到扫描振镜模块，并被物镜聚焦，形成第一焦斑组合和第二焦斑组合，从而在焦面上形成四个焦斑。基于时域转化为空域的方法，使用面阵探测器代替单点探测器，在相对较低成本下，可以实现对艾里斑4进行40个以上探测器的细分。同时，采用多焦点激发，进一步提升了系统的成像效率。
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公开(公告)号：CN114114674B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202210093399.7
申请日：2022-01-26
Abstract: 本发明公开了一种基于无惯性反馈校正的光束稳定装置，该装置包括两对光束偏转器、第一分光棱镜、第二分光棱镜、第一透镜、第二透镜、第一光电感应器、第二光电感应器和控制器等部件。本发明利用光束偏转器实现光束的位置和角度控制，完全消除控制执行部件中的机械运动，消除环境噪声的干扰。并且利用了声光偏转器的高响应频率（可以达到1 MHz以上）的优势，实现快速、高精度的光束角度漂移校正。利用本发明方法与装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN113654656B
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202111209478.1
申请日：2021-10-18
IPC: G01J1/42
Abstract: 本发明公开了一种基于三光束干涉的光束漂移检测装置与方法，该装置包括分束镜、反射镜、道威棱镜、图像传感器等部件。装置将入射光束均分成三束光束，然后让三光束进行干涉形成干涉图案，将入射光束的微小角度与位置的变化转换为干涉图案的变化，位置角度变化将引起光栅条纹周期的变化，光束位置变化将引起干涉图案能量分布的变化。装置将结合图像传感器与分析算法，获得高精度光束漂移的检测，为高精密光学系统中光束的实时校正提供技术支持，可以广泛用于超分辨显微成像、高精度激光直写光刻等高精密激光技术中。
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