一种用于研究堆辐照考验回路的水化学调节装置

    公开(公告)号:CN117558476A

    公开(公告)日:2024-02-13

    申请号:CN202311523244.3

    申请日:2023-11-14

    Abstract: 本发明公开了一种用于研究堆辐照考验回路的水化学调节装置,包括:调节水箱、高压引水管路、高压上充管路和水质调节装置,所述高压引水管路的进水端与主系统管道连通,所述高压引水管路的出水端与所述调节水箱连通,所述高压上充管路的进水端与所述调节水箱连通,所述高压上充管路的出水端与所述主系统管道连通;本发明通过将调节装置连接至主系统管道,并通过水质调节装置对水质参数进行调节和测量,从而获得满足中子辐照和腐蚀试验所需的高温高压水化学环境,并可以通过调节水化学环境来开展材料辐照腐蚀机理研究,对材料辐照腐蚀进行合理的评价。

    旋转式流量调节组件和辐照装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119641935A

    公开(公告)日:2025-03-18

    申请号:CN202411580729.0

    申请日:2024-11-07

    Abstract: 本申请提供了一种旋转式流量调节组件和辐照装置,包括:进水管,进水管内部形成流道,进水管的侧壁设置有进水口;导流件,导流件设置在进水管中,导流件为中空结构,导流件内部形成容置腔,导流件的侧壁设置有上导流口和下导流口,上导流口与进水口相连通,下导流口与流道相连通;阀芯,阀芯可转动地设置在容置腔中,阀芯也为中空结构,阀芯内部形成调节腔,阀芯的侧壁中相对于上导流口和下导流口的位置处分别设置有压力补偿口和调节口,使得转动阀芯,压力补偿口可与上导流口连通,同时调节口可与下导流口连通;其中,进水口、上导流口、压力补偿口的通行面积沿流路方向递减,形成了突缩突扩结构,使得调节腔内会出现回流,以增大流动阻力系数。

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