公开(公告)号：CN119194382A

公开(公告)日：2024-12-27

申请号：CN202411146361.7

申请日：2024-08-20

Applicant: 中国核动力研究设计院

Inventor： 杨红艳 ,  刘春海 ,  孙永铎 ,  赵可 ,  王浩 ,  肖军 ,  王辉

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/16 ,  C23C14/02

Abstract: 本发明提供了一种铁素体/马氏体钢表面涂层的制备方法，其步骤包括：对铁素体/马氏体钢表面打磨、抛光及清洗预处理；在磁控溅射设备中对铁素体/马氏体钢表面偏压反溅射清洗；在Ar气氛下对Cr靶和Al靶表面预溅射；通过Cr靶溅射在铁素体/马氏体钢表面沉积Cr涂层；通过Cr靶与Al靶双靶共溅射在铁素体/马氏体钢表面沉积CrAl涂层；通过交替沉积Cr涂层和CrAl涂层，在铁素体/马氏体钢表面形成总层数4～32层、总厚度5～20μm的Cr/CrAl多层涂层；对铁素体/马氏体钢表面涂层去应力和矫正变形处理。本发明提供的一种铁素体/马氏体钢表面涂层制备方法，具有良好的耐高温液态铅铋腐蚀性能。

公开(公告)号：CN110055496B

公开(公告)日：2021-05-04

申请号：CN201910517214.9

申请日：2019-06-14

Applicant: 中国核动力研究设计院

Inventor： 张瑞谦 ,  刘春海 ,  杨红艳 ,  韦天国 ,  彭小明 ,  杜沛南 ,  王昱

IPC: C23C14/16 ,  C23C14/35 ,  C23C14/02

Abstract: 本发明公开了一种在核用锆合金基底表面制备Cr涂层的制备工艺，对锆合金基底进行研磨，最后使用抛光膏在金相抛光机上进行抛光处理，打磨光滑后，对锆合金片表面油污进行清洗；置于超高真空磁控溅射设备的真空炉腔内，待真空度达到本底真空2×10‑4Pa后，通入气体用偏压反溅清洗10分钟；待基片表面反溅清洗完成后，采用射频电源将Cr靶迅速起辉后，关闭挡板，对靶材表面进行预溅射10分钟，去除表面氧化物或吸附杂质；打开Cr靶挡板进行沉积Cr涂层；在不关闭真空系统条件下，锆合金随炉冷却至100℃以下，进行去应力和矫正变形处理。本发明采用的磁控溅射技术在核用锆合金基底上沉积强结合力、高厚度Cr涂层。

公开(公告)号：CN110055496A

公开(公告)日：2019-07-26

申请号：CN201910517214.9

申请日：2019-06-14

Applicant: 中国核动力研究设计院

Inventor： 张瑞谦 ,  刘春海 ,  杨红艳 ,  韦天国 ,  彭小明 ,  杜沛南 ,  王昱

IPC: C23C14/16 ,  C23C14/35 ,  C23C14/02

Abstract: 本发明公开了一种在核用锆合金基底表面制备Cr涂层的制备工艺，对锆合金基底进行研磨，最后使用抛光膏在金相抛光机上进行抛光处理，打磨光滑后，对锆合金片表面油污进行清洗；置于超高真空磁控溅射设备的真空炉腔内，待真空度达到本底真空2×10-4Pa后，通入气体用偏压反溅清洗10分钟；待基片表面反溅清洗完成后，采用射频电源将Cr靶迅速起辉后，关闭挡板，对靶材表面进行预溅射10分钟，去除表面氧化物或吸附杂质；打开Cr靶挡板进行沉积Cr涂层；在不关闭真空系统条件下，锆合金随炉冷却至100℃以下，进行去应力和矫正变形处理。本发明采用的磁控溅射技术在核用锆合金基底上沉积强结合力、高厚度Cr涂层。