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发明公开
聚芳硫醚系树脂膜、金属层叠体、聚芳硫醚系树脂膜的制造方法、及金属层叠体的制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN114245810A

公开(公告)日：2022-03-25

申请号：CN202080054999.1

申请日：2020-07-22

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 山田绘美 , 佐藤诚

IPC: C08J7/12 , C08J5/18 , C08L81/02 , B32B27/28 , B32B15/20 , B32B15/08 , B32B37/06 , B32B37/10

Abstract: 本发明提供聚芳硫醚系树脂膜、金属层叠体、聚芳硫醚系树脂膜的制造方法、及金属层叠体的制造方法，能够形成兼顾平滑性和密合力的金属层。一种聚芳硫醚系树脂膜，其至少一侧的表面通过基于X射线光电子能谱法(XPS)的分析而检测到的氧原子为10原子％以上且17原子％以下，且氧原子与碳原子的原子数比O/C为0.10以上且0.25以下。

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