一种咬合桩接续施工的施工方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117661617A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202311733638.1

    申请日:2023-12-15

    Abstract: 本发明涉及一种咬合桩接续施工的施工方法,包括如下步骤:在项目停工前,将素荤咬合桩的第一素桩施工完成;在第一素桩旁施工砂桩;项目复工时,在砂桩旁施工第二素桩;取出砂桩内的砂,并向内浇筑混凝土,从而完成咬合桩止水帷幕的闭合。本发明提供的咬合桩接续施工的施工方法,通过设置砂桩的方式,解决紧邻已建建(构)筑物的咬合式排桩遇不可抗力停工导致无法连续施工的难题。降低了基坑开挖施工对周边环境(已建建筑、管线等)的影响,解决了咬合桩止水帷幕闭合的问题,缩短了项目总工期。

    深基坑支护结构及深基坑施工方法

    公开(公告)号:CN111058455A

    公开(公告)日:2020-04-24

    申请号:CN201911199461.5

    申请日:2019-11-29

    Inventor: 孙海忠 张丽丽

    Abstract: 本发明提供了一种深基坑支护结构及深基坑施工方法,所述深基坑支护结构包括第一钢斜撑和第二钢斜撑,在换撑施工过程中,所述第一钢斜撑和所述第二钢斜撑先后分别被安装于所述第一基坑的地下二层楼板上和地下一层楼板上。在进行深基坑施工时,使用本发明的深基坑支护结构可以实现将深基坑的第二基坑提前至第一基坑完成地下二层楼板施工时开始挖掘,相比原有基坑施工第二基坑智能在第一基坑地下室结构出±0.00后开挖的施工工序而言,加快了施工进度,缩短了地下结构施工工期,防止基坑工程的“时空效应”对周边环境的已建建筑、管线、邻近地铁等造成影响。

    一种地下工程一柱一桩的倾斜格构柱的加固体系及方法

    公开(公告)号:CN119507702A

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN202411775267.8

    申请日:2024-12-05

    Abstract: 本发明公开一种地下工程一柱一桩的倾斜格构柱的加固体系及方法,该体系包括锚入在倾斜格构柱一侧的第一道支撑的下表面及其对应正下方的底板的上表面的锚固件,垂直焊接在第一道支撑的锚固件和底板的锚固件之间的两根新增角钢,两根所述新增角钢与倾斜格构柱的原角钢布置间距相同,竖向均匀间隔焊接在各根新增角钢与其所在侧的倾斜格构柱中的原角钢之间水平布置的多块侧面缀板,所述侧面缀板与倾斜格构柱的原缀板错开分布,竖向均匀间隔焊接在两根所述新增角钢之间的多块水平布置的端面缀板,所述端面缀板与侧面缀板相对应分布。本发明不会对地下结构的施工造成阻碍,不影响栈桥使用,具有安全、可靠、稳定、施工便捷的优点。

    深基坑支护结构及深基坑施工方法

    公开(公告)号:CN111058455B

    公开(公告)日:2025-05-09

    申请号:CN201911199461.5

    申请日:2019-11-29

    Inventor: 孙海忠 张丽丽

    Abstract: 本发明提供了一种深基坑支护结构及深基坑施工方法,所述深基坑支护结构包括第一钢斜撑和第二钢斜撑,在换撑施工过程中,所述第一钢斜撑和所述第二钢斜撑先后分别被安装于所述第一基坑的地下二层楼板上和地下一层楼板上。在进行深基坑施工时,使用本发明的深基坑支护结构可以实现将深基坑的第二基坑提前至第一基坑完成地下二层楼板施工时开始挖掘,相比原有基坑施工第二基坑智能在第一基坑地下室结构出±0.00后开挖的施工工序而言,加快了施工进度,缩短了地下结构施工工期,防止基坑工程的“时空效应”对周边环境的已建建筑、管线、邻近地铁等造成影响。

    深基坑支护结构
    5.
    实用新型

    公开(公告)号:CN211621604U

    公开(公告)日:2020-10-02

    申请号:CN201922103932.X

    申请日:2019-11-29

    Inventor: 孙海忠 张丽丽

    Abstract: 本实用新型提供了一种深基坑支护结构,所述深基坑支护结构包括第一钢斜撑和第二钢斜撑,在换撑施工过程中,所述第一钢斜撑和所述第二钢斜撑先后分别被安装于所述第一基坑的地下二层楼板上和地下一层楼板上。在进行深基坑施工时,使用本实用新型的深基坑支护结构可以实现将深基坑的第二基坑提前至第一基坑完成地下二层楼板施工时开始挖掘,相比原有基坑施工第二基坑智能在第一基坑地下室结构出±0.00后开挖的施工工序而言,加快了施工进度,缩短了地下结构施工工期,防止基坑工程的“时空效应”对周边环境的已建建筑、管线、邻近地铁等造成影响。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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