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公开(公告)号：CN118616908A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410784724.3
申请日：2024-06-18
Applicant: 上海工程技术大学
IPC: B23K26/362 , B23K26/70
Abstract: 本发明属于硅钢技术领域，具体提供了一种耐复杂温度工况的激光刻痕取向硅钢方法，将硅钢片浸没在刻痕辅助溶液中进行激光刻痕，解决了现有无法提高刻痕效果失效的最低温度的问题，本发明提高了铁损改善效果，刻痕效果可在较高温度下保留且不损失，并且实现了无痕刻蚀。
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