含马来酰亚胺基团的二苯甲酮光引发剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN1727364A

    公开(公告)日:2006-02-01

    申请号:CN200510026815.8

    申请日:2005-06-16

    Abstract: 本发明公开了下式所示的一类含马来酰亚胺基团的二苯甲酮光引发剂及其制备方法。以含有氨基的二苯甲酮和马来酸酐为反应原料,室温下反应制得含马来酰胺酸基团的二苯甲酮,然后在无水乙酸钠和乙酸酐存在下脱水闭环,得到含马来酰亚胺基团的二苯甲酮光引发剂。该化合物具有不饱和双键,既可以作为合成高分子光引发剂的单体,也可以直接作为光引发剂,在紫外光固化等领域具有良好的应用前景。

    高分子型六芳基二咪唑光引发剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN1847286A

    公开(公告)日:2006-10-18

    申请号:CN200610025666.8

    申请日:2006-04-13

    Abstract: 本发明公开了下式所示的一类高分子型六芳基二咪唑光引发剂及其制备方法。这类光引发剂是以4-氟苯偶酰为原料,经取代反应、环化反应和氧化偶合反应得到高分子型六芳基二咪唑光引发剂。此类光引发剂含有供电子的叔胺侧基,有利于改善六芳基二咪唑类光引发剂的紫外-可见光吸收性能和光引发活性,同时其高分子结构有利于降低光固化后残留的六芳基二咪唑向材料表面的迁移,在光致抗蚀剂、印刷线路版等微电子领域有着广泛的应用前景。式中,n=5~200,R1、R2、R3、R4和R5分别独立选自氢、卤素、硝基、氰基、含1~3个碳原子的烷基或者含1~3个碳原子的烷氧基,X为二元叔胺基团。

    高分子型六芳基二咪唑光引发剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN100369955C

    公开(公告)日:2008-02-20

    申请号:CN200610025666.8

    申请日:2006-04-13

    Abstract: 本发明公开了下式所示的一类高分子型六芳基二咪唑光引发剂及其制备方法。这类光引发剂是以4-氟苯偶酰为原料,经取代反应、环化反应和氧化偶合反应得到高分子型六芳基二咪唑光引发剂。此类光引发剂含有供电子的叔胺侧基,有利于改善六芳基二咪唑类光引发剂的紫外-可见光吸收性能和光引发活性,同时其高分子结构有利于降低光固化后残留的六芳基二咪唑向材料表面的迁移,在光致抗蚀剂、印刷线路版等微电子领域有着广泛的应用前景。式中,n=5~200,R1、R2、R3、R4和R5分别独立选自氢、卤素、硝基、氰基、含1~3个碳原子的烷基或者含1~3个碳原子的烷氧基,X为二元叔胺基团。

    含醚基六芳基二咪唑光引发剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN1319948C

    公开(公告)日:2007-06-06

    申请号:CN200510024936.9

    申请日:2005-04-07

    Inventor: 史永涛 印杰

    Abstract: 本发明公开了下式所示的一类含醚基六芳基二咪唑光引发剂及其制备方法。这类光引发剂是以3,3′-二甲氧基苯偶酰为原料,经水解反应、环氧化反应、开环反应、环化反应、氧化偶合反应得到含醚基六芳基二咪唑光引发剂。此类引发剂含有较为柔顺的醚基侧基,有利于改善六芳基二咪唑类光引发剂与丙烯酸酯类聚合体系的相容性,具有良好的紫外吸收性能和光引发活性,在光致抗蚀剂、印刷线路版等微电子领域有着广泛的研究潜力和应用前景。

    含醚基六芳基二咪唑光引发剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN1687146A

    公开(公告)日:2005-10-26

    申请号:CN200510024936.9

    申请日:2005-04-07

    Inventor: 史永涛 印杰

    Abstract: 本发明公开了下式所示的一类含醚基六芳基二咪唑光引发剂及其制备方法。这类光引发剂是以3,3′-二甲氧基苯偶酰为原料,经水解反应、环氧化反应、开环反应、环化反应、氧化偶合反应得到含醚基六芳基二咪唑光引发剂。此类引发剂含有较为柔顺的醚基侧基,有利于改善六芳基二咪唑类光引发剂与丙烯酸酯类聚合体系的相容性,具有良好的紫外吸收性能和光引发活性,在光致抗蚀剂、印刷线路版等微电子领域有着广泛的研究潜力和应用前景。

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