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公开(公告)号：CN1967865A
公开(公告)日：2007-05-23
申请号：CN200610146556.7
申请日：2006-11-15
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开了一种激光诱导热成像(LITI)装置和利用该装置制造电子设备的方法。所述LITI装置包括室、基底支撑物、晒版器件和激光源或振荡器。LITI装置将可转印层从膜供体装置转印到中间电子设备的表面上。LITI装置利用磁力来提供可转印层和中间设备的表面之间的紧密接触。通过在LITI装置中的插入可转印层和中间设备表面而分开的两个组件中形成的磁性材料来产生磁力。在LITI装置的两个下面的组件中形成磁体或者磁性材料：1)中间设备和膜供体装置；2)中间设备和晒版器件；3)基底支撑物和膜供体装置；或者4)基底支撑物和晒版器件。
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公开(公告)号：CN1958303A
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200610143368.9
申请日：2006-11-06
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 激光诱导热成像(LITI)的设备、LITI的方法及有机光发射显示(OLED)装置。用于形成OLED装置发光层的LITI设备包括：基板台，适合容放受体基板和施主膜以被层压，该受体基板具有OLED装置的像素区和磁铁，该施主膜具有要传输到像素区的发光层；激光振荡器，用于辐射激光到施主膜上；接触框架，适合于设置在基板台和激光振荡器之间，该接触框架具有与传输到受体基板的发光层对应的至少一个传输部分且具有用于与受体基板形成磁力的磁铁；和接触框架传输机构，用于移动接触框架到基板台上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1958302A
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200610143367.4
申请日：2006-11-06
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 一种用于成像施主薄膜的成像层到受体基板上的激光诱导热成像设备。该激光诱导热成像设备包括：基板台和施主薄膜，其中，该基板台包括磁铁，并且适于容放具有有机光发射装置的象素区的受体基板，该施主薄膜包括成像在该象素区上的有机光发射层；激光振荡器，其发射激光到该施主薄膜上；接触框架，其适应于设置在该基板台和该激光振荡器之间，并且包括对应于施主薄膜的成像部分的图案的开口部分和用于与该基板台形成磁力的永磁铁；和接触框架移动机构，其用于向该基板台移动该接触框架。
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公开(公告)号：CN101372736A
公开(公告)日：2009-02-25
申请号：CN200810214020.3
申请日：2008-08-22
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C23C14/12 , C23C14/243
Abstract: 一种坩埚加热装置和一种包括该坩埚加热装置的淀积装置。该坩埚加热装置包括：坩埚，其包括用于容纳淀积材料的主体和设置在所述主体并具有喷嘴的盖；带，其通过接触部分与所述坩埚相连；热电偶，其与所述带相连；壳体，其用于容纳所述坩埚和所述带；和加热器，其设置在所述壳体内部，用于加热所述淀积材料。
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公开(公告)号：CN101186160A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200610138193.2
申请日：2006-11-16
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: B41J2/447 , H01L51/0013 , H01L51/56
Abstract: 一种激光诱导热成像装置和激光诱导热成像方法，其能够利用磁力将供体薄膜均匀地粘合到受体基板上，以实现有效的激光诱导热成像方法；以及一种利用该激光诱导热成像方法来制造有机发光二极管的方法。所述激光诱导热成像装置包括室，其中设置有具有磁性物质的接触框架，以朝向包含磁体的受体基板挤压，所述受体基板设置于基板台上，所述供体薄膜设置于所述受体基板和所述接触框架之间；以及通过所述接触框架中的开口照射所述供体薄膜的激光振荡器。由此，所述激光诱导热成像装置提高了所述受体薄膜与所述基板之间的粘合力，从而生产出具有改进的寿命、产量和可靠性的有机发光二极管。
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公开(公告)号：CN1966279A
公开(公告)日：2007-05-23
申请号：CN200610146554.8
申请日：2006-11-15
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开了一种激光诱导热成像(LITI)装置及使用该LITI装置制造电子器件的方法。LITI装置包括腔体、基底支撑件、晒版器件和激光源或振荡器。LITI装置将可转印层从膜供体器件转印到中间电子器件的表面上。LITI装置利用磁力来提供可转印层和中间器件表面之间的紧密接触。在LITI装置的彼此分隔地置于可转印层和中间器件表面之间的两个组件中形成的磁性材料产生磁力。磁体或磁性材料形成在下面的LITI装置的两个组件中：1)中间器件和膜供体器件；2)中间器件和晒版器件；3)基底支撑件和膜供体器件；4)基底支撑件和晒版器件。
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公开(公告)号：CN1966280A
公开(公告)日：2007-05-23
申请号：CN200610146555.2
申请日：2006-11-15
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开了一种激光诱导热成像(LITI)装置及使用该LITI装置制造电子器件的方法。LITI装置包括腔体、基底支撑件、晒版器件和激光源或振荡器。LITI装置将可转印层从膜供体器件转印到中间电子器件的表面上。LITI装置利用磁力来提供可转印层和中间器件表面之间的紧密接触。通过形成在LITI装置的彼此分隔地置于可转印层和中间器件表面之间的两个组件中的磁性材料产生磁力。磁体或磁性材料形成在LITI装置的两个下面的组件中：1)中间器件和膜供体器件；2)中间器件和晒版器件；3)基底支撑件和膜供体器件；或4)基底支撑件和晒版器件。
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