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发明公开
硬掩模组合物、硬掩模层和形成图案的方法审中-实审

公开(公告)号：CN115710346A

公开(公告)日：2023-02-24

申请号：CN202211012008.0

申请日：2022-08-23

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金惠廷 , 金修熙 , 金有那 , 朴亨锡 , 尹熙灿 , 李在哲 , 李种和 , 郑瑟基 , 蔡闰珠 , 黄元宗

IPC: C08G61/10 , G03F1/48 , G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、由硬掩模组合物制造的硬掩模层、以及由硬掩模组合物形成图案的方法，硬掩模组合物包含：聚合物，包含由化学式1表示的结构单元和由化学式2表示的结构单元，以及溶剂：其中化学式1和化学式2的定义如说明书中所描述。[化学式1][化学式2]

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