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公开(公告)号：CN1705912B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200380101900.5
申请日：2003-10-20
Applicant: 三星电子株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
Abstract: 本发明提供了一种图案形成材料体，该图案形成材料体包括：在目标衬底上形成的热敏材料层；在热敏材料层和目标衬底之间形成的第一光/热转换层；和在热敏材料层与第一光/热转换层相对的表面上形成的第二光/热转换层，该热敏材料层置于第一和第二光/热转换层之间。使用在热敏材料层的两个表面上形成的第一和第二光/热转换层中产生的热，能够在由光致抗蚀剂制成的热敏材料层中形成宽高比更高的精细图案。
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公开(公告)号：CN1768381A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：CN200480008410.5
申请日：2004-05-21
Applicant: 三星电子株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G11B7/00452 , G11B7/261 , G11B7/263 , Y10S428/913
Abstract: 本发明提供了：一种多层结构，当其温度超过预定的阈值时其体积变化；一种微观结构绘制方法，包括将激光束发射到多层结构上以在束斑以内引起温度分布，并在具有温度高于阈值的束斑的一部分上执行微观记录；一种光盘母盘；一种使用多层结构的母盘制作方法，其中，多层结构包括基板和在该基板上形成的变形层，其中，当被激光束辐射的变形层的一部分的温度超过预定温度时，这部分的体积变化。微观结构绘制方法包括将激光束发射到变形层的预定区域上，并将被激光束辐射的变形层的区域加热到超过预定的温度，从而被加热的区域会发生体积变化。
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公开(公告)号：CN100395834C
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200480008410.5
申请日：2004-05-21
Applicant: 三星电子株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G11B7/00452 , G11B7/261 , G11B7/263 , Y10S428/913
Abstract: 本发明提供了一种多层结构，当其温度超过预定的阈值时其体积变化；一种微观结构绘制方法，包括将激光束发射到多层结构上以在束斑以内引起温度分布，并在具有温度高于阈值的束斑的一部分上执行微观记录；一种光盘母盘；一种使用多层结构的母盘制作方法，其中，多层结构包括基板和在该基板上形成的变形层，其中，当被激光束辐射的变形层的一部分的温度超过预定温度时，这部分的体积变化。微观结构绘制方法包括将激光束发射到变形层的预定区域上，并将被激光束辐射的变形层的区域加热到超过预定的温度，从而被加热的区域会发生体积变化。
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