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公开(公告)号：CN116203803A
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202211524674.2
申请日：2022-11-30
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 用于光学邻近校正(OPC)的方法，该方法可以包括：输入与要形成的目标层相对应的弯曲布局数据；基于弯曲布局数据执行曼哈顿化，并获取曼哈顿化数据；对曼哈顿化数据执行分段，并将曼哈顿化数据分解为多个数据分量；基于多个数据分量生成OPC模型，并对OPC模型执行模拟以提取OPC模型的轮廓；计算OPC模型的轮廓和与目标层相邻的层之间的重叠分数，并将所计算的重叠分数反映在OPC模型中；以及基于模拟结果来获取用于形成目标层的设计数据。因此，通过根据本公开的一些示例实施例的用于光学邻近校正的方法，可以获得具有根据考虑到相邻层定位目标层而优化的定位的设计数据。
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