公开(公告)号：CN1648282B

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200510005888.9

申请日：2005-01-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 河闵镐 ,  田真镐 ,  郑履河

IPC: C23C16/513 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C16/45578

Abstract: 一种等离子体增强的化学气相淀积设备包括处理室和在处理室内延伸的至少一个注气导管。每个注气导管具有注射区，来自注射区的源气体通过导管的侧壁引入处理室中。为此，在注射区中设置多个槽。槽最小化注气导管内源气体将变为等离子体的可能性。由此，可以最小化微粒污染。

公开(公告)号：CN1648282A

公开(公告)日：2005-08-03

申请号：CN200510005888.9

申请日：2005-01-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 河闵镐 ,  田真镐 ,  郑履河

IPC: C23C16/513 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C16/45578

Abstract: 一种等离子体增强的化学气相淀积设备包括处理室和在处理室内延伸的至少一个注气导管。每个注气导管具有注射区，来自注射区的源气体通过导管的侧壁引入处理室中。为此，在注射区中设置多个槽。槽最小化注气导管内源气体将变为等离子体的可能性。由此，可以最小化微粒污染。