公开(公告)号：CN101122737A

公开(公告)日：2008-02-13

申请号：CN200710005269.9

申请日：2007-02-12

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李明秀 ,  裴硕钟 ,  李贞勋 ,  崔成云 ,  金炳局

IPC: G03F1/14 ,  G03F7/09 ,  G03F9/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F1/72 ,  G03F1/38 ,  G03F1/60

Abstract: 提供一种其对准误差已经被校正的光掩模，以及校正光掩模的对准误差的方法。光掩模包括光掩模衬底、在光掩模衬底的一个表面上形成的光学图形、以及在光掩模衬底中形成的多个应力产生部分。校正光掩模的对准误差的方法包括以下步骤：在光掩模衬底上形成光学图形、测量光学图形的对准误差、以及在光掩模衬底中形成多个应力产生部分，使得应力产生部分对应于所测量的对准误差。