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发明公开
光刻胶涂覆装置审中-公开

公开(公告)号：CN118259552A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202311713206.4

申请日：2023-12-12

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 崔曦允 , 吴炅桓 , 金浩均 , 李俊熙 , 崔耀汉

IPC: G03F7/16

Abstract: 一种光刻胶涂覆装置，包括：光刻胶收集罐，临时存储光刻胶；光刻胶供应管道，连接到光刻胶收集罐；泵，连接到光刻胶供应管道；光刻胶加压设备，在泵的后部处连接到光刻胶供应管道；光刻胶循环管道，在光刻胶加压设备的后部处，该光刻胶循环管道将光刻胶供应管道连接到光刻胶收集罐；光刻胶排出管道，在光刻胶循环管道的后部处连接到光刻胶供应管道；光刻胶排出阀，连接到光刻胶排出管道；以及光刻胶排出喷嘴，连接到光刻胶排出阀。

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