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1.

发明授权
化学气相沉积设备有权转让

公开(公告)号：CN102230167B

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：CN201110220757.8

申请日：2008-11-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金昶成 , 刘相德 , 洪钟波 , 沈智慧 , 李元申

IPC: C23C16/455

Abstract: 本发明提供一种化学气相沉积设备。所述设备包括反应室、气体引入单元和气体排出单元。气体室包括基座和反应炉，在基座上装载晶片，在反应炉中用化学气相沉积处理晶片。气体引入单元设置在反应室的外壁，以从反应炉外部向反应炉中心部分供应反应气体。气体排出单元设置在反应室的中心部分，以在反应气体被用于在反应炉中的反应之后将反应气体排放到反应室的上面的外部或下面的外部。因此，即使当增加工艺压力以生长高温沉积层时，室内的气体强度也可保持在基本均匀的状态。

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