Salt, photoresist composition and process for producing photoresist pattern

Invention Grant

US08685617B2 Salt, photoresist composition and process for producing photoresist pattern 有权

Title translation: 盐，光致抗蚀剂组合物和制造光致抗蚀剂图案的方法

Patent Title: Salt, photoresist composition and process for producing photoresist pattern
Patent Title (中): 盐，光致抗蚀剂组合物和制造光致抗蚀剂图案的方法
Application No.: US13333521

Application Date: 2011-12-21
Publication No.: US08685617B2

Publication Date: 2014-04-01
Inventor: Koji Ichikawa , Isao Yoshida , Yuki Suzuki
Applicant: Koji Ichikawa , Isao Yoshida , Yuki Suzuki
Applicant Address: JP Tokyo
Assignee: Sumitomo Chemical Company, Limited
Current Assignee: Sumitomo Chemical Company, Limited
Current Assignee Address: JP Tokyo
Agency: Birch, Stewart, Kolasch & Birch, LLP
Priority: JP2010-287364 20101224
Main IPC: G03F7/004
IPC: G03F7/004 ; G03F7/028 ; C07C309/02 ; C07C309/04 ; C07C309/06

Abstract:

A salt represented by the formula (I): wherein Q1, Q2, L1, L2, ring W, s, t, R1, R2 and Z+ are defined in the specification.

Abstract(Chinese):

由式（I）表示的盐：其中Q1，Q2，L1，L2，环W，s，t，R1，R2和Z +在说明书中定义。

Public/Granted literature

Information query

Espacenet

IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/004	.感光材料（G03F7/12，G03F7/14优先）