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Invention Grant
US08169020B2 Semiconductor device with buried bit lines and method for fabricating the same 有权
具有掩埋位线的半导体器件及其制造方法

  • Patent Title: Semiconductor device with buried bit lines and method for fabricating the same
  • Patent Title (中): 具有掩埋位线的半导体器件及其制造方法
  • Application No.: US12649107
    Application Date: 2009-12-29
  • Publication No.: US08169020B2
    Publication Date: 2012-05-01
  • Inventor: Yun-Seok Cho
  • Applicant: Yun-Seok Cho
  • Applicant Address: KR Gyeonggi-do
  • Assignee: Hynix Semiconductor Inc.
  • Current Assignee: Hynix Semiconductor Inc.
  • Current Assignee Address: KR Gyeonggi-do
  • Agency: IP & T Group LLP
  • Priority: KR10-2009-0104213 20091030
  • Main IPC: H01L29/78
  • IPC: H01L29/78
Semiconductor device with buried bit lines and method for fabricating the same
Abstract:
A semiconductor device includes a substrate having trenches, buried bit lines formed in the substrate, and including a metal silicide layer and a metallic layer, wherein the metal silicide layer contacts sidewalls of the trenches and the metallic layer is formed over the sidewalls of the trenches and contacts the metal silicide layer.
Abstract(Chinese):

半导体器件包括具有沟槽的基板，在基板中形成的掩埋位线，并且包括金属硅化物层和金属层，其中金属硅化物层接触沟槽的侧壁和金属层形成在沟槽的侧壁上 并与金属硅化物层接触。

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IPC分类:
H 电学
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L29/00 专门适用于整流、放大、振荡或切换，并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的半导体器件；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒，例如PN结耗尽层或载流子集结层的电容器或电阻器；半导体本体或其电极的零部件（H01L31/00至H01L47/00，H01L51/05优先；除半导体或其电极之外的零部件入H01L23/00；由在一个共用衬底内或其上形成的多个固态组件组成的器件入H01L27/00）
H01L29/66 .按半导体器件的类型区分的
H01L29/68 ..只能通过对一个不通有待整流、放大或切换的电流的电极供给电流或施加电位方可进行控制的（H01L29/96优先）
H01L29/76 ...单极器件
H01L29/772 ....场效应晶体管
H01L29/78 .....由绝缘栅产生场效应的
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