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Invention Grant
US07645662B2 Transistor providing different threshold voltages and method of fabrication thereof 有权
提供不同阈值电压的晶体管及其制造方法

  • Patent Title: Transistor providing different threshold voltages and method of fabrication thereof
  • Patent Title (中): 提供不同阈值电压的晶体管及其制造方法
  • Application No.: US11743973
    Application Date: 2007-05-03
  • Publication No.: US07645662B2
    Publication Date: 2010-01-12
  • Inventor: Sung-Ki Min
  • Applicant: Sung-Ki Min
  • Applicant Address: US CA Los Gatos
  • Assignee: DSM Solutions, Inc.
  • Current Assignee: DSM Solutions, Inc.
  • Current Assignee Address: US CA Los Gatos
  • Agency: Baker Botts L.L.P.
  • Main IPC: H01L21/8238
  • IPC: H01L21/8238
Transistor providing different threshold voltages and method of fabrication thereof
Abstract:
A transistor includes a channel region with a first portion and a second portion. A length of the first portion is smaller than a length of the second portion. The first portion has a higher threshold voltage than the second portion. The lower threshold voltage of the second portion allows for an increased ON current. Despite the increase attained in the ON current, the higher threshold voltage of the first portion maintains or lowers a relatively low OFF current for the transistor.
Abstract(Chinese):

晶体管包括具有第一部分和第二部分的沟道区域。 第一部分的长度小于第二部分的长度。 第一部分具有比第二部分更高的阈值电压。 第二部分的较低阈值电压允许增加的导通电流。 尽管在导通电流中获得了增加，第一部分的较高阈值电压维持或降低了晶体管的相对较低的截止电流。

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IPC分类:
H 电学
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造（由预制电组件组成的组装件的制造入H05K3/00，H05K13/00）
H01L21/77 ..在公共衬底中或上面形成的由许多固态元件或集成电路组成的器件的制造或处理（电可编程只读存储器或其多步骤的制造方法入H01L27/115）
H01L21/78 ...把衬底连续地分成多个独立的器件（改变表面物理特性或者半导体形状的切割入H01L21/304）
H01L21/82 ....制造器件，例如每一个由许多元件组成的集成电路
H01L21/822 .....衬底是采用硅工艺的半导体的（H01L21/8258优先）
H01L21/8232 ......场效应工艺
H01L21/8234 .......MIS工艺
H01L21/8238 ........互补场效应晶体管，例如CMOS
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