本发明提供一种TEM透射电镜小薄样品的双面磨抛制备方法，属于机械加工技术领域，所述制备方法包括，设置吸附孔，将吸附孔端埋入样品座的凹槽内，所述空腔的另一端用柔性材料封闭；在所述吸附孔末端吸附磨抛样品，所述磨抛样品与所述样品座的凹槽之间设置磁性吸附垫；将所述吸附空腔抽负压；进行磨抛；磨抛结束后取样，将样品清洗2‑3次，取出晾干。本发明所述方法在磨抛冲击时样品几乎不发生位移，半埋结构可以保护样品边缘不易受损，配合小压力、短时间的磨抛参数，可保证对样品边角无损伤，实现双面洁净抛光，通过吸附孔数量的设置，实现批量化制备。