Invention Grant
- Patent Title: 一种导模法生长β相氧化镓单晶的原料处理方法
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Application No.: CN202210483060.8Application Date: 2022-05-06
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Publication No.: CN114574966BPublication Date: 2022-08-16
- Inventor: 霍晓青 , 张胜男 , 王英民 , 王健 , 王新月 , 周传新 , 张弛 , 秦广阔
- Applicant: 中国电子科技集团公司第四十六研究所
- Applicant Address: 天津市河西区洞庭路26号
- Assignee: 中国电子科技集团公司第四十六研究所
- Current Assignee: 中国电子科技集团公司第四十六研究所
- Current Assignee Address: 天津市河西区洞庭路26号
- Agency: 天津中环专利商标代理有限公司
- Agent 王凤英
- Main IPC: C30B29/16
- IPC: C30B29/16 ; C30B15/34

Abstract:
本发明公开了一种导模法生长β相氧化镓单晶的原料处理方法。步骤是:1、称取Ga2O3多晶粉料放入装有带缝模具的坩埚中;2、将坩埚放入生长炉中并安装籽晶;3、抽真空后充入CO2气体,进行两次升温;4、缓慢降低籽晶,待籽晶底部熔化后,向上提拉籽晶,并且降温,生长β相氧化镓多晶;5、待生长完毕,将晶体提拉出至模具上方,对炉体进行降温;6、将炉内CO2气体放出至常压,取出β相氧化镓多晶;7、将β相氧化镓多晶料放入单晶生长坩埚中,进行β相氧化镓单晶生长。采用本发明后消除了大量空洞,提高了晶体质量;增加了单晶可利用率,每炉次成本降低了10%~20%;单晶成品率提高了10%~15%。
Public/Granted literature
- CN114574966A 一种导模法生长β相氧化镓单晶的原料处理方法 Public/Granted day:2022-06-03
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IPC分类: