Invention Publication
- Patent Title: 一种结构可调的大气压低温等离子体射流阵列处理装置
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Application No.: CN202011631169.9Application Date: 2020-12-31
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Publication No.: CN112888133APublication Date: 2021-06-01
- Inventor: 柳晶晶 , 丁泽辉 , 郑明沣 , 荣一 , 余满森
- Applicant: 广州大学
- Applicant Address: 广东省广州市番禺区大学城外环西路230号
- Assignee: 广州大学
- Current Assignee: 广州大学
- Current Assignee Address: 广东省广州市番禺区大学城外环西路230号
- Agency: 广州市华学知识产权代理有限公司
- Agent 付茵茵
- Main IPC: H05H1/46
- IPC: H05H1/46 ; H05H1/44 ; D06M10/02

Abstract:
本发明公开一种结构可调的大气压低温等离子体射流阵列处理装置,包括进气腔体、电动平移台和多个等离子体发生器;进气腔体的一侧设有进气通道,进气通道用以通入放电气体,进气腔体的底部设有多个出气孔;等离子体发生器通过连接器与出气孔连接;电动平移台位于等离子体发生器下方,待处理材料放置于电动平移台上,电动平移台用以带动待处理材料横向移动和纵向移动,同时调节进气腔体和待处理材料的竖直距离。可根据不同的放电需求随时更换放电结构,同时可根据不同的需求减少等离子体发生器的数量,能满足多种处理材料的要求,真正使大气压低温等离子体处理材料的灵活性得到了提高。
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IPC分类: