一种结构可调的大气压低温等离子体射流阵列处理装置
Abstract:
本发明公开一种结构可调的大气压低温等离子体射流阵列处理装置,包括进气腔体、电动平移台和多个等离子体发生器;进气腔体的一侧设有进气通道,进气通道用以通入放电气体,进气腔体的底部设有多个出气孔;等离子体发生器通过连接器与出气孔连接;电动平移台位于等离子体发生器下方,待处理材料放置于电动平移台上,电动平移台用以带动待处理材料横向移动和纵向移动,同时调节进气腔体和待处理材料的竖直距离。可根据不同的放电需求随时更换放电结构,同时可根据不同的需求减少等离子体发生器的数量,能满足多种处理材料的要求,真正使大气压低温等离子体处理材料的灵活性得到了提高。
Patent Agency Ranking
0/0