Invention Grant
- Patent Title: 薄膜处理设备
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Application No.: CN202010078813.8Application Date: 2020-02-03
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Publication No.: CN112080807BPublication Date: 2022-09-30
- Inventor: M·隆金 , H·基茨勒 , R·内夫 , S·济凯利 , P·曹纳 , P·艾格纳
- Applicant: 奥若泰克股份有限公司 , 布斯-SMS-勘兹勒股份有限公司
- Applicant Address: 奥地利,雷高;
- Assignee: 奥若泰克股份有限公司,布斯-SMS-勘兹勒股份有限公司
- Current Assignee: 奥若泰克股份有限公司,布斯-SMS-勘兹勒股份有限公司
- Current Assignee Address: 奥地利,雷高;
- Agency: 北京戈程知识产权代理有限公司
- Agent 程伟; 于高瞻
- Priority: 19179678.8 20190612 EP
- Main IPC: D01D1/02
- IPC: D01D1/02

Abstract:
本发明公开了薄膜处理设备,包括:加工壳体(12),其以与水平成至多20°的倾斜度定向,具有可加热和/或可冷却的壳体外壳(14);入口喷嘴(20),其布置在加工壳体(12)的入口区域(18)中;出口喷嘴(24),其布置在加工壳体(12)的出口区域(22)中;以及可驱动的转子轴(44),其布置在材料处理空间(160)中并且同轴地延伸,用于在壳体外壳的内表面(15)上产生材料膜并且用于朝向出口区域(22)输送材料。根据本发明的转子轴(44)包括布置在转子轴主体(50)上的至少一个提升元件(56),所述提升元件被设计为使得在转子轴(44)的旋转期间朝向转子轴主体(50)产生提升力。
Public/Granted literature
- CN112080807A 薄膜处理设备 Public/Granted day:2020-12-15
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