Invention Grant
- Patent Title: 一种晶界扩散工艺用真空反应系统
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Application No.: CN202010792736.2Application Date: 2020-08-10
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Publication No.: CN111928638BPublication Date: 2025-03-18
- Inventor: 张永军
- Applicant: 北京北方华创磁电科技有限公司
- Applicant Address: 北京市平谷区马坊工业园区西区247号
- Assignee: 北京北方华创磁电科技有限公司
- Current Assignee: 北京北方华创磁电科技有限公司
- Current Assignee Address: 北京市平谷区马坊工业园区西区247号
- Agency: 北京维正专利代理有限公司
- Agent 赵万凯
- Main IPC: F27B5/05
- IPC: F27B5/05 ; F27B5/14 ; F27B5/16 ; F27D1/12 ; F27D1/18 ; H01F41/02
Abstract:
本申请涉及晶界扩散工艺技术领域，尤其是涉及一种晶界扩散工艺用真空反应系统，包括能够对工件进行加热的真空炉，真空炉的炉体包括内部中空的炉壳，真空炉的外侧设置有快冷装置，快冷装置包括一端密封的供水管和回水管，供水管与炉壳内部的空腔、回水管与炉壳内部的空腔均连通有联通管，本申请具有加快烧结设备的冷却速度，实现烧结设备的快速冷却的效果。
Public/Granted literature
- CN111928638A 一种晶界扩散工艺用真空反应系统 Public/Granted day:2020-11-13
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