Invention Grant
- Patent Title: 硅片少子寿命的测试方法及装置
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Application No.: CN202010191560.5Application Date: 2020-03-18
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Publication No.: CN111398774BPublication Date: 2022-02-15
- Inventor: 张翔 , 冯举
- Applicant: 西安奕斯伟材料科技有限公司 , 西安奕斯伟硅片技术有限公司
- Applicant Address: 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室;
- Assignee: 西安奕斯伟材料科技有限公司,西安奕斯伟硅片技术有限公司
- Current Assignee: 西安奕斯伟材料科技股份有限公司,西安奕斯伟硅片技术有限公司
- Current Assignee Address: 710000 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室
- Agency: 北京银龙知识产权代理有限公司
- Agent 许静; 张博
- Main IPC: G01R31/265
- IPC: G01R31/265 ; G01R31/26

Abstract:
本发明提供了一种硅片少子寿命的测试方法及装置,属于半导体技术领域。硅片少子寿命的测试装置,包括:激光发生器,用于发射激光;微波探针,用于发射微波;控制单元,用于根据待测试硅片的外延层厚度计算出角度α,并根据所述角度α调整所述硅片的位置、所述微波探针发射微波的角度以及所述激光发生器发射激光的角度,使得所述硅片与水平面之间的夹角为α,所述微波探针发射微波的方向与所述硅片垂直,所述激光发生器发射激光的方向与水平面垂直。本发明能够实现对不同厚度外延层的硅片进行少子寿命测试。
Public/Granted literature
- CN111398774A 硅片少子寿命的测试方法及装置 Public/Granted day:2020-07-10
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