Invention Publication
- Patent Title: 一种通过反馈环节控制电源的等离子体射流装置和方法
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Application No.: CN201911088623.8Application Date: 2019-11-08
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Publication No.: CN110996487APublication Date: 2020-04-10
- Inventor: 殷炜宏 , 李国强 , 段倩倩 , 胡兴
- Applicant: 上海工程技术大学
- Applicant Address: 上海市松江区龙腾路333号
- Assignee: 上海工程技术大学
- Current Assignee: 上海工程技术大学
- Current Assignee Address: 上海市松江区龙腾路333号
- Agency: 上海科盛知识产权代理有限公司
- Agent 杨宏泰
- Main IPC: H05H1/00
- IPC: H05H1/00 ; H05H1/48 ; G05B11/42

Abstract:
本发明涉及一种通过反馈环节控制电源的等离子体射流装置和方法,包括等离子体产生组件、光电转换组件和PID控制组件,所述的PID控制组件分别与等离子体产生组件和光电转换组件电连接,所述的光电转换组件设置于等离子体产生组件的出气口处,用于测量谱线强度并将光信号转变为电信号,所述的PID控制组件包括PID控制器、显示屏以及调节按钮,所述的PID控制器用于计算标准电离电压,所述的调节按钮用于调节等离子体产生组件内的实际电离电压,所述的显示屏用于显示标准电离电压和实际电离电压,与现有技术相比,本发明具有结构简单、成本低且可反馈调节控制等离子体射流强度等优点。
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