Invention Grant
- Patent Title: 阵列基板及其制造方法、显示面板
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Application No.: CN201910407090.9Application Date: 2019-05-15
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Publication No.: CN110133928BPublication Date: 2022-01-04
- Inventor: 黎文秀 , 陈强 , 方业周 , 王旭 , 陈志刚 , 彭艳召 , 任伟 , 夏高飞 , 刘耀祖 , 高云 , 彭利满
- Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- Applicant Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- Current Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- Agency: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- Agent 杨广宇
- Main IPC: G02F1/1362
- IPC: G02F1/1362
Abstract:
本申请公开了一种阵列基板及其制造方法、显示面板，涉及显示技术领域。由于该阵列基板中的黑矩阵层位于衬底基板的一侧，晶体管器件层和彩膜层位于衬底基板的另一侧，即黑矩阵层，与晶体管器件层和彩膜层位于衬底基板的不同侧。因此在形成该阵列基板中的晶体管器件层和彩膜层时，黑矩阵层不会遮挡对位标识点，可以确保掩模板能够与对位标识点准确对准，进而可以确保最终制造得到的阵列基板中的各个膜层的对位精度较高。
Public/Granted literature
- CN110133928A 阵列基板及其制造方法、显示面板 Public/Granted day:2019-08-16
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IPC分类:
