Invention Publication
- Patent Title: 膜构件和用于形成膜构件的方法
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Application No.: CN201810105212.4Application Date: 2018-02-02
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Publication No.: CN108383076APublication Date: 2018-08-10
- Inventor: A·德厄
- Applicant: 英飞凌科技股份有限公司
- Applicant Address: 德国诺伊比贝尔格
- Assignee: 英飞凌科技股份有限公司
- Current Assignee: 英飞凌科技股份有限公司
- Current Assignee Address: 德国诺伊比贝尔格
- Agency: 北京市金杜律师事务所
- Agent 郑立柱; 张鹏
- Priority: 102017102190.6 2017.02.03 DE
- Main IPC: B81C1/00
- IPC: B81C1/00 ; B81B7/00

Abstract:
膜构件包括具有导电膜层的膜结构。导电膜层具有悬置区域和膜区域。另外,导电膜层的悬置区域布置在绝缘层上。此外,绝缘层布置在承载基体上。此外,膜构件包括对电极结构。在对电极结构和导电膜层的膜区域之间垂直地布置有空腔。此外,所述导电膜层的边缘以在所述导电膜层和所述对电极结构之间的垂直距离一半以上为幅度横向突出超过所述绝缘层的边缘。此外,所述导电膜层吸收在所述导电膜层的膜区域偏移时而施加在所述膜结构上的90%以上的力。
Public/Granted literature
- CN108383076B 膜构件和用于形成膜构件的方法 Public/Granted day:2023-05-16
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