Invention Grant
- Patent Title: 基于银合金的溅射靶
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Application No.: CN201580039358.8Application Date: 2015-07-10
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Publication No.: CN106661720BPublication Date: 2019-05-28
- Inventor: M.施洛特 , A.赫佐格 , T.肖勒 , U.科尼茨卡
- Applicant: 万腾荣高新材料德国有限责任公司
- Applicant Address: 德国哈瑙
- Assignee: 万腾荣高新材料德国有限责任公司
- Current Assignee: 万腾荣高新材料德国有限责任公司
- Current Assignee Address: 德国哈瑙
- Agency: 北京市柳沈律师事务所
- Agent 侯宇
- Priority: 102014214683.6 2014.07.25 DE
- International Application: PCT/EP2015/065800 2015.07.10
- International Announcement: WO2016/012268 DE 2016.01.28
- Date entered country: 2017-01-18
- Main IPC: C23C14/14
- IPC: C23C14/14 ; C22C5/06 ; C23C14/34
Abstract:
本发明涉及一种溅射靶，其包含银合金，所述银合金基于银合金的总量包含5至25‑重量％的钯，并且具有在25至90μm范围内的平均颗粒尺寸。
Public/Granted literature
- CN106661720A 基于银合金的溅射靶 Public/Granted day:2017-05-10
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IPC分类:
