Invention Publication
- Patent Title: 合成非晶质二氧化硅粉末及其制造方法
- Patent Title (English): Synthetic amorphous silica powder and process for manufacturing same
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Application No.: CN201480062560.8Application Date: 2014-12-10
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Publication No.: CN105722788APublication Date: 2016-06-29
- Inventor: 植田稔晃
- Applicant: 三菱综合材料株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 三菱综合材料株式会社
- Current Assignee: 三菱综合材料株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 北京德琦知识产权代理有限公司
- Agent 康泉; 王珍仙
- Priority: 2014-014445 2014.01.29 JP
- International Application: PCT/JP2014/082652 2014.12.10
- International Announcement: WO2015/114956 JA 2015.08.06
- Date entered country: 2016-05-16
- Main IPC: C01B33/12
- IPC: C01B33/12 ; C01B33/18

Abstract:
本发明的目的和课题在于,提供一种合成非晶质二氧化硅粉末及其制造方法,所述合成非晶质二氧化硅粉末适合于在高温及减压的环境下使用的合成二氧化硅玻璃产品的原料,在高温及减压的环境下的使用中稳定地抑制气泡的产生或膨胀,并且可以以较低成本得到。而且,本发明为一种合成非晶质二氧化硅粉末,其以二氧化硅作为原料,通过造粒和烧成而得到,所述合成非晶质硅石粉末的特征在于,(1)体积基准的粒度分布的累积频率50%的粒径DV50、(2)体积基准的粒径45μm以下的粒子的累积频率、(3)体积基准的粒度分布的累积频率90%的粒径DV90与体积基准的粒度分布的累积频率10%的粒径DV10之差除以体积基准的粒度分布的累积频率50%的粒径DV50的值(DV90?DV10)/DV50、(4)个数基准的粒度分布的频率峰值的频率FNL与位于粒径30μm以下的个数基准的粒度分布的频率峰值的频率FNS之比FNL/FNS以及(5)体积密度在规定范围。
Public/Granted literature
- CN105722788B 合成非晶质二氧化硅粉末及其制造方法 Public/Granted day:2018-04-03
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