Invention Grant
- Patent Title: 多层电容器和用于制造多层电容器的方法
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Application No.: CN201380059873.3Application Date: 2013-10-07
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Publication No.: CN104781894BPublication Date: 2018-03-20
- Inventor: M.肖斯曼 , G.恩格尔 , S.奥伯迈尔 , B.德尔加斯特 , M.科伊尼 , J.康拉德
- Applicant: 埃普科斯股份有限公司
- Applicant Address: 德国慕尼黑
- Assignee: 埃普科斯股份有限公司
- Current Assignee: TDK电子股份有限公司
- Current Assignee Address: 德国慕尼黑
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 朱君; 刘春元
- Priority: 102012111023.9 2012.11.15 DE
- International Application: PCT/EP2013/070820 2013.10.07
- International Announcement: WO2014/075846 DE 2014.05.22
- Date entered country: 2015-05-15
- Main IPC: H01G4/30
- IPC: H01G4/30 ; H01G4/38
Abstract:
提出包括绝缘层(2)和其中布置的电极层(3，4，5)的多层电容器(1)，其中多层电容器(1)包括多个彼此相连的片段(11，12)并且其中在片段(11，12)之间设置至少一个释放区域(18，19，20)。此外提供用于制造这种多层电容器(1)的方法。
Public/Granted literature
- CN104781894A 多层电容器和用于制造多层电容器的方法 Public/Granted day:2015-07-15
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