由陶瓷和低体积立方氮化硼形成的复合致密体及制造方法
Abstract:
一种复合致密体,通过在高温/高压下烧结包括约5至约60体积%的范围内的cBN、氧化锆(或在约5至约20体积%的范围内)以及其它陶瓷材料的组合物而形成。在烧结之后,所述氧化锆以立方相和/或四方相存在。所述氧化锆在烧结之前可能被稳定化或未被稳定化。其它陶瓷材料可包括一种或多种Ti、Zr、Hf、Al、Si的氮化物、硼化物以及碳化物,或Al2O3。一些陶瓷材料是在烧结过程期间形成的。所述致密体可以在烧结过程期间粘结到碳化钨基底。
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