Invention Grant
- Patent Title: 用于控制纳米管织物层和膜中的密度、孔隙率和/或间隙大小的方法
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Application No.: CN201180018569.5Application Date: 2011-02-14
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Publication No.: CN102834418BPublication Date: 2016-09-28
- Inventor: R·森 , T·科凯博 , 谷丰
- Applicant: 南泰若股份有限公司
- Applicant Address: 美国马萨诸塞州
- Assignee: 南泰若股份有限公司
- Current Assignee: 日本瑞翁株式会社
- Current Assignee Address: 美国马萨诸塞州
- Agency: 上海专利商标事务所有限公司
- Agent 项丹
- Priority: 61/304,045 2010.02.12 US
- International Application: PCT/US2011/024710 2011.02.14
- International Announcement: WO2011/100661 EN 2011.08.18
- Date entered country: 2012-10-11
- Main IPC: C08F2/08
- IPC: C08F2/08

Abstract:
揭示了一种用于控制纳米管织物层中密度、孔隙率和/或间隙尺寸的方法。在一个方面,这可以通过控制纳米管织物中的成排度来实现。在一个方面,该方法包括调整分散在纳米管施涂溶液中的独立纳米管元件的浓度。高浓度的独立纳米管元件会倾向于促进使用该纳米管施涂溶液形成的纳米管织物层中的成排,而较低浓度会倾向于抑制成排。在另一个方面,该方法包括调整分散在纳米管施涂溶液中的离子颗粒的浓度。低浓度的离子颗粒会倾向于促进使用该纳米管施涂溶液形成的纳米管织物层中的成排,而较高浓度会倾向于抑制成排。在其他方面,对两个浓度参数都进行了调整。
Public/Granted literature
- CN102834418A 用于控制纳米管织物层和膜中的密度、孔隙率和/或间隙大小的方法 Public/Granted day:2012-12-19
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