Invention Grant
- Patent Title: 薄膜晶体管元件及其制作方法
- Patent Title (English): Film transistor element and manufacturing method thereof
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Application No.: CN201110184767.0Application Date: 2011-06-28
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Publication No.: CN102222700BPublication Date: 2013-01-09
- Inventor: 徐伟伦 , 高嘉骏 , 翁守朋
- Applicant: 友达光电股份有限公司
- Applicant Address: 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号
- Assignee: 友达光电股份有限公司
- Current Assignee: 友达光电股份有限公司
- Current Assignee Address: 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号
- Agency: 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- Agent 梁挥; 祁建国
- Priority: 100116472 2011.05.11 TW
- Main IPC: H01L29/786
- IPC: H01L29/786 ; H01L29/06 ; H01L21/336 ; H01L21/265

Abstract:
一薄膜晶体管元件包括一第一导电类型晶体管与一第二导电类型晶体管。第一导电类型晶体管包括一第一图案化掺杂层、一第一栅极、一第一源极、一第一漏极以及一第一半导体图案。第二导电类型晶体管包括一第二图案化掺杂层、一第二栅极、一第二源极、一第二漏极以及一第二半导体图案。第一半导体图案与第二半导体图案构成一图案化半导体层。第一图案化掺杂层设置于第一半导体图案之下,且第二图案化掺杂层设置于第二半导体图案之上。
Public/Granted literature
- CN102222700A 薄膜晶体管元件及其制作方法 Public/Granted day:2011-10-19
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IPC分类: