Invention Publication
CN102099108A 从含氢材料中除去杂质
无效 - 撤回
- Patent Title: 从含氢材料中除去杂质
- Patent Title (English): Removal of impurities from hydrogen-containing materials
-
Application No.: CN200980127654.8Application Date: 2009-05-15
-
Publication No.: CN102099108APublication Date: 2011-06-15
- Inventor: 渡边正晴 , 马克·雷纳 , 埃德·洛 , 万玉广孝
- Applicant: 马西森三气公司
- Applicant Address: 美国新泽西州
- Assignee: 马西森三气公司
- Current Assignee: 马西森三气公司
- Current Assignee Address: 美国新泽西州
- Agency: 北京集佳知识产权代理有限公司
- Agent 顾晋伟; 吴鹏章
- Priority: 61/053,990 2008.05.16 US; 12/466,272 2009.05.14 US
- International Application: PCT/US2009/044223 2009.05.15
- International Announcement: WO2009/140645 EN 2009.11.19
- Date entered country: 2011-01-14
- Main IPC: B01J20/18
- IPC: B01J20/18 ; B01D53/04

Abstract:
本发明涉及一种净化含氢材料的方法。该方法包括提供包含二氧化硅的净化剂材料的步骤。该二氧化硅可在约100℃或更高的温度下在干燥气氛下加热以形成活化的二氧化硅。该活化的二氧化硅可与起始含氢材料接触,其中活化的二氧化硅降低来自起始含氢材料的一种或多种杂质的浓度,以形成净化的含氢材料,其中活化的二氧化硅不分解净化的含氢材料。
Information query