Invention Grant
CN102089684B 薄膜结构的制造方法及其组合物
失效 - 权利终止
- Patent Title: 薄膜结构的制造方法及其组合物
- Patent Title (English): Method of making thin film structure and compositions thereof
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Application No.: CN200980127497.0Application Date: 2009-05-14
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Publication No.: CN102089684BPublication Date: 2014-08-13
- Inventor: T·希雷伊尔 , C·J·齐默尔曼 , G·M·约翰逊
- Applicant: 巴斯夫公司
- Applicant Address: 美国新泽西州
- Assignee: 巴斯夫公司
- Current Assignee: 巴斯夫公司
- Current Assignee Address: 美国新泽西州
- Agency: 北京市中咨律师事务所
- Agent 林柏楠; 彭飞
- Priority: 61/053,311 2008.05.15 US
- International Application: PCT/US2009/043912 2009.05.14
- International Announcement: WO2009/140470 EN 2009.11.19
- Date entered country: 2011-01-13
- Main IPC: G02B5/28
- IPC: G02B5/28 ; C23C14/22
Abstract:
本发明涉及改变包含高折射率和低折射率层的多层薄膜结构的折射率的方法，其中所述高折射率和低折射率层是相同材料的，所述方法包括：a)在基底上沉积具有一折射率的第一层膜；b)将具有不同折射率的第二层膜沉积到所述第一层膜上；和c)将折射率不同于所述第二层膜的第三层膜沉积到所述第二层膜上，还涉及其组合物。在某些实施方案中，本发明的这种多层薄膜结构涉及装饰性用途。
Public/Granted literature
- CN102089684A 薄膜结构的制造方法及其组合物 Public/Granted day:2011-06-08
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