Invention Publication
- Patent Title: 用于等离子体喷射系统的气体分配环组件
- Patent Title (English): Gas distribution ring assembly for plasma spray system
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Application No.: CN201010270092.7Application Date: 2010-08-24
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Publication No.: CN101998746APublication Date: 2011-03-30
- Inventor: J·G·阿尔巴内塞 , D·J·鲍德温 , 刘煜照 , C·J·洛克纳 , W·P·鲁施
- Applicant: 通用电气公司
- Applicant Address: 美国纽约州
- Assignee: 通用电气公司
- Current Assignee: 通用电气技术有限公司
- Current Assignee Address: 瑞士巴登
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 严志军; 谭祐祥
- Priority: 12/546226 2009.08.24 US
- Main IPC: H05H1/26
- IPC: H05H1/26

Abstract:
一种用于等离子体喷射系统(102)的气体分配环组件(100)包括气体分配环(142),气体分配环(142)包括允许气体通到其内径(148)的多个开口。该组件还包括在气体分配环(142)和等离子体喷射系统(102)的被充电的出口(110)之间与气体分配环(142)沿轴向对准的单独的定位环(144)。
Public/Granted literature
- CN101998746B 用于等离子体喷射系统的气体分配环组件 Public/Granted day:2014-04-02
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IPC分类: