Invention Grant
CN101888906B 电子材料用清洗剂和清洗方法
失效 - 权利终止
- Patent Title: 电子材料用清洗剂和清洗方法
- Patent Title (English): Cleaning agent and cleaning method for electronic material
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Application No.: CN200880119796.5Application Date: 2008-11-17
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Publication No.: CN101888906BPublication Date: 2012-12-19
- Inventor: 胜川吉隆 , 铃木一充 , 佐藤祥平
- Applicant: 三洋化成工业株式会社
- Applicant Address: 日本京都府
- Assignee: 三洋化成工业株式会社
- Current Assignee: 三洋化成工业株式会社
- Current Assignee Address: 日本京都府
- Agency: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司
- Agent 张淑珍; 王维玉
- Priority: 2007-324597 2007.12.17 JP; 2008-022135 2008.01.31 JP
- International Application: PCT/JP2008/003342 2008.11.17
- International Announcement: WO2009/078123 JA 2009.06.25
- Date entered country: 2010-06-08
- Main IPC: B08B3/08
- IPC: B08B3/08 ; C11D3/30 ; C11D3/43 ; H01L21/304 ; B08B3/10 ; B08B3/12 ; C11D1/02 ; C11D3/04

Abstract:
一种电子材料用清洗剂,其中,所述清洗剂含有阴离子成分由通式(1)表示的阴离子型表面活性剂(A)、碳原子数6~18的链烯、以及选自于由通式(2)表示的有机溶剂构成的组中的1种以上的有机溶剂(B),上述(B)的SP值为6~13。R1[-(OA1)a-Q-]b (1)式(1)中,R1为碳原子数1~10的烃基,A1为碳原子数2~4的亚烷基,Q-为-COO-、-OCH2COO-、-SO3-、-OSO3-或-OPO2(OR2)-,R2为氢或碳原子数1~10的烃基,a为平均值0~20,b为1~6的整数,Q-为-COO-或-SO3-时a为0。R3[-(OA2)c-OH]d (2)式(2)中,R3为碳原子数1~12的烃基,A2为碳原子数2~4的亚烷基,c为平均值0~20,d为1~6的整数。
Public/Granted literature
- CN101888906A 电子材料用清洗剂和清洗方法 Public/Granted day:2010-11-17
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