Invention Grant
- Patent Title: 含有V族金属的前体及其对含有金属的膜的沉积的应用
- Patent Title (English): New group v metal containing precursors and their use for metal containing film deposition
-
Application No.: CN200780039828.6Application Date: 2007-10-19
-
Publication No.: CN101528759BPublication Date: 2013-01-09
- Inventor: N·布拉斯科 , S·达尼埃尔 , N·梅尔 , C·迪萨拉
- Applicant: 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 , 科学研究国家中心
- Applicant Address: 法国巴黎
- Assignee: 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司,科学研究国家中心
- Current Assignee: 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司,科学研究国家中心
- Current Assignee Address: 法国巴黎
- Agency: 北京市中咨律师事务所
- Agent 林柏楠; 刘金辉
- Priority: 06301090.4 2006.10.26 EP
- International Application: PCT/EP2007/061216 2007.10.19
- International Announcement: WO2008/049790 EN 2008.05.02
- Date entered country: 2009-04-24
- Main IPC: C07F17/00
- IPC: C07F17/00 ; C23C16/30
Abstract:
通式(Ia)或通式(Ib)的化合物。这些新的前体适用于纯金属、金属氧化物、氧氮化合物、氮化物和/或硅化物膜沉积以制备电极和/或高k值层，和/或铜扩散阻挡层层，等等。
Public/Granted literature
- CN101528759A 新型含有V族金属的前体及其对含有金属的膜的沉积的应用 Public/Granted day:2009-09-09
Information query
