Invention Publication
- Patent Title: 用于沉积高纵横比分子结构的方法
- Patent Title (English): Method for depositing high aspect ratio molecular structures
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Application No.: CN200780008330.3Application Date: 2007-03-07
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Publication No.: CN101400598APublication Date: 2009-04-01
- Inventor: 埃斯科·卡宾耐 , 艾伯特·纳斯布林 , 大卫·布朗 , 大卫·冈萨雷斯
- Applicant: 卡纳图有限公司
- Applicant Address: 芬兰艾斯博
- Assignee: 卡纳图有限公司
- Current Assignee: 卡纳图有限公司
- Current Assignee Address: 芬兰艾斯博
- Agency: 北京安信方达知识产权代理有限公司
- Agent 王漪; 郑霞
- Priority: 20060227 2006.03.08 FI
- International Application: PCT/FI2007/000059 2007.03.07
- International Announcement: WO2007/101906 EN 2007.09.13
- Date entered country: 2008-09-08
- Main IPC: B82B3/00
- IPC: B82B3/00 ; C01B31/02 ; H01L51/00
Abstract:
一种用于沉积高纵横比分子结构(HARMS)的方法，所述方法包括在含有一个或多个HARM结构的气溶胶上施加力，所述力使基于一种或多种物理特征和/或性质的一个或多个HARM结构朝向一个或多个预定位置移动，用来依靠所施加的力将一个或多个HARM结构沉积在模板中。
Public/Granted literature
- CN101400598B 用于沉积高纵横比分子结构的方法 Public/Granted day:2012-07-18
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